ASML攜三星建研發廠專家分析：非劍指台積電 - 新聞

荷蘭半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML)宣布與南韓三星電子合作，將在南韓打造半導體研發廠。對此，專家今天(14日)分析，此舉應是為了下世代記憶體開發，且艾司摩爾提供的次世代極紫外光(EUV)曝光設備應會針對DRAM記憶體做出客製化調整，因此，評估應不是衝著台積電而來，影響有限，真正要憂心的反而是美國與日本。

荷蘭與南韓將發布聯合聲明，宣布兩國建立「晶片聯盟」，而雙方半導體大廠，荷蘭艾司摩爾(ASML)已與南韓三星電子簽署MOU，將共同投資約1兆韓元，約新台幣239億元，在南韓打造半導體研發廠，由艾司摩爾獨家提供次世代極紫外光(EUV)曝光設備來研發尖端半導體。

工研院產科國際所研究總監楊瑞臨14日分析，此次荷韓兩大廠的合作，應不是聚焦在邏輯系統單晶片，而是鎖定DRAM長期發展，尤其南韓是記憶體第一大國，DRAM已開始需要使用到EUV設備，雙方合作開發下世代記憶體，是互蒙其利，且南韓可以確保不會買不到EUV設備，還有望讓相關設備產業鏈，包括安裝、重要零組件、設備代工生產直接落地，在韓國國內發展。

楊瑞臨也推測，考量台積電是艾司摩爾最大、最重要的客戶，艾司摩爾提供給南韓做記憶體研發的EUV設備，應會客製化，對台積電應不會有負面影響。他說：『(原音)DRAM因為他的元件結構比較單純，遠遠比AI晶片來得單純，我認為給DRAM的曝光機跟AI晶片先進製程的曝光機，裡面在功能上、特性上、元件在曝光的要求上，應該會有某種程度的差異，有可能ASML會針對DRAM做一些曝光機的客製化。』

楊瑞臨指出，真正需要擔心艾司摩爾攜手南韓三星的，是美國與日本，因為美國有全球第三大記憶體業者美光，且美國現正與日本就曝光設備展開合作，盼能擺脫荷蘭獨大的局面，後續美日如何因應值得關注。

至於台積電董事長劉德音13日表示，明年半導體將是健康的一年。楊瑞臨認為，國內外普遍共識為明年下半年，半導體將迎來全面復甦，2025年進入「大好年」，在此前提下，明年第二季應會有部分廠商開始迎接新訂單，且目前看來，不會提前至第一季顯現。