美攔截ASML設備出口專家：沒擋下中國將掌握7奈米工藝 - 新聞

美國出手下，荷蘭政府撤銷對自家晶片製造設備商艾司摩爾(ASML)2款微影製程設備出口中國的許可。專家今天(3日)分析，這2款設備是最先進的浸潤式深紫外光DUV曝光機，美方若沒有及時擋下，不但會助長中國半導體工藝技術一口氣推進至7奈米，甚至能輕鬆進階到3奈米製程，讓美國在科技戰當中受到重創，如今美國成功攔截，等同於讓中國半導體工藝止步於7奈米，未來各項AI新興應用推廣，中國半導體製程因缺乏技術，只能仰賴國際，屆時有機會讓台灣IC設計享受轉單效應。

美中科技戰雙方持續過招，近期荷蘭晶片製造設備商艾司摩爾(ASML)，幾款特定型號的微影機台出口許可遭到荷蘭撤銷，原因是美國再度設下限制。由於這些機台本就由荷蘭政府發出出口許可，此次由美方從中攔截，備受關注。

工研院產科國際所研究總監楊瑞臨3日解析，這兩款被攔截的設備，其實是艾司摩爾最先進的浸潤式深紫外光DUV曝光機，型號分別是NXT:2050i及NXT:2100i，前者於2021年開賣，後者更是在2022年下半年推出，開賣至今不到2年，是浸潤式深紫外光設備最先進的改良版，不但生產效率非常高，更導入了許多先進關鍵技術，若讓中國順利購入，中國將一口氣達到7奈米工藝水準，不再需要透過老舊機台重複曝光來做到近似7奈米，這無疑會讓美國在科技戰中受到重創。他說：『(原音)美國後來發現以後，從中攔截，我非常能夠理解。這個最新版的艾司摩爾的DUV機台2100i(NXT:2100i)，可以幫助中國一次曝光就可以做到7奈米，而且比較容易再進階到5奈米，其實對美國來說是非常要命的重傷，所以美國必須要攔截。』

既然這兩款機台事關重大，荷蘭政府為何還會准許出口？楊瑞臨則說，涉及美國、荷蘭、中國三方角力，美方後續如何與荷蘭協商，有待觀察。

楊瑞臨也提到，此次美國成功攔截，長期來看，等同於是讓中國半導體工藝在7奈米止步，且未來生成式AI推論功能逐漸導入到終端產品，包括手機、筆電、車用等，都需要5奈米甚至3奈米以下先進製程搭配，在中國止步7奈米、台灣IC設計業者持續推進、開發生成式AI終端晶片情況下，等於是讓台灣業者更能掌握全球市場，包含中國市場在內的商機，轉單效應可期。